SEMI Grade5 For 14nm and further technology node
| 品名 | 產品應用 |
| 雙氧水 | 廣泛應用于半導體前道濕法清洗工藝，包括顆粒、金 屬雜質和有機物殘留的清洗 |
| 硫酸 | 應用于半導體前道光刻膠剝離和有機物殘留的清洗 |
| 氨水 | 應用于半導體前道particle及polymer的清洗 |
| BOE | 應用于半導體前道氧化硅的濕法蝕刻工藝 |
| 硝酸 | 應用于半導體前道硅蝕刻液及晶圓回收清洗 |
| 鹽酸 | 應用于半導體前道金屬雜質的清洗去除 |
| TMAH | 應用于半導體前道光刻膠顯影劑和硅減薄工藝 |
| 品名 | 純度級別 | UP-SSS | UP-SS | UP-S | UP | EL |
| 過氧化氫 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 硫酸 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 氨水 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 異丙醇 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 四甲基氫氧化氨 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 鹽酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| 硝酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| 氟化銨 | √ | √ | √ | √ | ||
| 氫氟酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| BOE | √ | √ | √ | √ | ||
| N甲基吡咯烷酮 | √ | √ | √ | |||
| 無水乙醇 | √ | √ | √ | |||
| 冰醋酸 | √ | √ | ||||
| 甲醇 | √ | √ | ||||
| 乙酸丁酯 | √ | √ | ||||
| 丙酮 | √ | |||||
| 草酸 | √ | |||||
| 氫氧化鈉 | √ | |||||
| 氫氧化鉀 | √ |
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